Microelectronic Applications of Chemical Mechanical Planarization; John Wiley & Sons Limited

  • Издатель: John Wiley & Sons Limited
  • ISBN: 9780470180891
  • Книги: Техническая литература
  • ID:6515818
Где купить

Цены

Последняя известная цена от 581 р. до 581 р. в 1 магазинах

В данный момент у нас нет информации о наличии данного товара в магазинах.
Вы можете поискать его на других площадках:

МагазинЦенаНаличие
Крупнейшая в Беларуси оптовая и розничная торговая сеть строительных материалов и инструментов
Мы предлагаем профессиональную консультацию, вежливое обслуживание, честные цены и быструю и аккуратную доставку
Промокоды на скидку
Мы трудимся, чтобы предложить максимальный выбор: товаров, способов оплаты, вариантов доставки — и лучший сервис
Промокоды на скидку
24shop - это возможность приобрести все необходимое в одном месте
Домотехника
5/5
Быстрая доставка. Мы доставляем товар по всей Беларуси в удобное для вас время
Промокоды на скидку
Заказ от 800 рублей мы привезем бесплатно!
Яндекс.Маркет
5/5
Промокоды на скидку

Описание

An authoritative, systematic, and comprehensive description of current CMP technology Chemical Mechanical Planarization (CMP) provides the greatest degree of planarization of any known technique. The current standard for integrated circuit (IC) planarization, CMP is playing an increasingly important role in other related applications such as microelectromechanical systems (MEMS) and computer hard drive manufacturing. This reference focuses on the chemical aspects of the technology and includes contributions from the foremost experts on specific applications. After a detailed overview of the fundamentals and basic science of CMP, Microelectronic Applications of Chemical Mechanical Planarization: * Provides in-depth coverage of a wide range of state-of-the-art technologies and applications * Presents information on new designs, capabilities, and emerging technologies, including topics like CMP with nanomaterials and 3D chips * Discusses different types of CMP tools, pads for IC CMP, modeling, and the applicability of tribometrology to various aspects of CMP * Covers nanotopography, CMP performance and defect profiles, CMP waste treatment, and the chemistry and colloidal properties of the slurries used in CMP * Provides a perspective on the opportunities and challenges of the next fifteen years Complete with case studies, this is a valuable, hands-on resource for professionals, including process engineers, equipment engineers, formulation chemists, IC manufacturers, and others. With systematic organization and questions at the end of each chapter to facilitate learning, it is an ideal introduction to CMP and an excellent text for students in advanced graduate courses that cover CMP or related semiconductor manufacturing processes.

Смотри также о книге.

О книге


ПараметрЗначение
Автор(ы)
ИздательJohn Wiley & Sons Limited
ISBN978-0-470-18089-1


Отзывы (0)


Зарегистрируйтесь и получайте бонусы за покупки!


Книги: Технические науки John Wiley & Sons Limited

Категория 465 р. - 698 р.

Книги: Технические науки

Категория 465 р. - 698 р.

закладки (0) сравнение (0)

6 ms