- Культура. Искусство
- Психология
- Домашние ремесла. Рукоделие
- Растениеводство
- Коллекционирование
- Публицистика
- Эзотерика. Парапсихология
- Медицина и здоровье
- История. Исторические науки
- Филологические науки
- Развлечения. Праздники
- Экономика. Бизнес
- Книги для родителей
- Кулинария
- Охота. Рыбалка. Собирательство
- Секс. Камасутра
- Туризм. Путеводители. Транспорт
- Философские науки. Социология
- Уход за животными
- Ремонт. Строительство. Интерьер
- Естественные науки
- Информационные технологии
- Фитнес. Спорт. Самооборона
- Красота. Этикет
- Государство и право. Юриспруденция
Atomic Layer Deposition. Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications; John Wiley & Sons Limited
- Издатель: John Wiley & Sons Limited
- ISBN: 9781118747421
- Книги: Зарубежная образовательная литература
- ID:6004364
Цены
Последняя известная цена от 569 р. до 569 р. в 1 магазинах
Вы можете поискать его на других площадках:
Магазин | Цена | Наличие |
---|---|---|
Описание
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
Смотри также о книге.
О книге
Параметр | Значение |
---|---|
Автор(ы) | Marja-Leena Kaariainen |
Издатель | John Wiley & Sons Limited |
ISBN | 978-1-118-74742-1 |
Отзывы (0)
Добавить отзыв
Книги: Технические науки John Wiley & Sons Limited
Категория 455 р. - 683 р.
Книги: Технические науки
Категория 455 р. - 683 р.