Atomic Layer Deposition. Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications; John Wiley & Sons Limited

Издатель: John Wiley & Sons Limited
ISBN: 9781118747421
Книги: Зарубежная образовательная литература
ID:6004364

Где купить

Рейтинг:

(0/5)

Отзывы (0) Оставить отзыв

Описание Характеристики Цены Отзывы (0)

Цены

Последняя известная цена от 569 р. до 569 р. в 1 магазинах

В данный момент у нас нет информации о наличии данного товара в магазинах.
Вы можете поискать его на других площадках:

Магазин	Цена	Наличие
OMA BY 5/5 Информация о компании	Крупнейшая в Беларуси оптовая и розничная торговая сеть строительных материалов и инструментов

Algo BY 5/5 Информация о компании	Мы предлагаем профессиональную консультацию, вежливое обслуживание, честные цены и быструю и аккуратную доставку ✔ Промокоды на скидку

OZ BY 5/5 Информация о компании	Мы трудимся, чтобы предложить максимальный выбор: товаров, способов оплаты, вариантов доставки — и лучший сервис ✔ Промокоды на скидку

24shop BY 5/5 Информация о компании	24shop - это возможность приобрести все необходимое в одном месте

Домотехника 5/5 Информация о компании

21vek BY 5/5 Информация о компании	Быстрая доставка. Мы доставляем товар по всей Беларуси в удобное для вас время ✔ Промокоды на скидку

Лабиринт 5/5 ООО "ЛАБИРИНТ.РУ" ИНН: 7728644571	Заказ от 800 рублей мы привезем бесплатно!

Яндекс.Маркет 5/5 ООО "ЯНДЕКС" ИНН: 7736207543	✔ Промокоды на скидку

Описание

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

Смотри также о книге.