Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения; Техносфера, 2019

Где купить

Сравнить цены

Последняя известная цена от 17 р. до 46 р. в 9 магазинах

В данный момент у нас нет информации о наличии данного товара в магазинах.
Вы можете поискать его на других площадках:

МагазинЦенаНаличие
Заказ от 800 рублей мы привезем бесплатно!

Наличие уточняйте
21.11.2024
Яндекс.Маркет
5/5
54 р. (-15%) Кэшбэк в Яндекс.Маркет до 3.8%
Промокоды на скидку

Наличие уточняйте
27.06.2024
Повышенный кешбэк до 40%

Наличие уточняйте
21.12.2024
Крупнейшая в Беларуси оптовая и розничная торговая сеть строительных материалов и инструментов
Мы предлагаем профессиональную консультацию, вежливое обслуживание, честные цены и быструю и аккуратную доставку
Мы трудимся, чтобы предложить максимальный выбор: товаров, способов оплаты, вариантов доставки — и лучший сервис
24shop - это возможность приобрести все необходимое в одном месте
Домотехника
5/5
Быстрая доставка. Мы доставляем товар по всей Беларуси в удобное для вас время
Промокоды на скидку

Описание

Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности. Сегодня размеры используемых полупроводниковых подложек возросли до 450 мм, а размеры элементов, формируемых на пластине в серийном производстве, уменьшились до 0,02-0,04 мкм. В результате степень интеграции выросла до одного миллиарда и более полупроводниковых приборов на одной пластине.

Использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества для технологии изделий с микро и нано элементами. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (1011-1012 см-3), минимальный разброс ионов по энергиям (?ei ? 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10–2?10–1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30?80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов, источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ICP для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например, в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD.

За последнее десятилетие эти источники нашли широкое промышленное применение, по которому появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP.

В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP. Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И, кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников.

Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP. В ней обобщено современное развитие этих технологических процессов и используемого для них оборудования. Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения - фото №1

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения - фото №2

Смотри также о книге.

О книге


ПараметрЗначение
Год издания2019
Возрастные ограничения12
Автор(ы)
ИздательТехносфера
СерияМир материалов и технологий
Количество книг1
Тип обложкитвердая
Вес0.86кг
Назначениедля технических ВУЗов
Вес, в граммах315
ИздательствоТехносфера
Возрастное ограничение16+
Количество страниц464
АвторБерлин Евгений Владимирович, Григорьев Василий Юрьевич, Сейдман Лев Александрович
Формат170x242мм
ISBN978-5-94-836519-0
Размеры17,00 см × 24,20 см × 2,60 см
ТематикаФизика
Обложкатвердый переплёт
Кол-во страниц464
РазделФизические науки


Отзывы (1)


  • 5/5

    Очень нужная книга для специалиста. Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников Индукционной связанной Плазмы. Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений.

Зарегистрируйтесь и получайте бонусы за покупки!


Книги: Физические науки. Астрономия Техносфера

Категория 14 р. - 21 р.

Книги: Физические науки. Астрономия

Категория 14 р. - 21 р.

update
закладки (0) сравнение (0)

74 ms